真空等离子机为您介绍等离子体处理腔体类型和结构:之前介绍了PEF等离子体处理装置的基本原理、典型模型及影响因素等内容,湖南真空等离子处理设备公司并指出PEF等离子体的性能对处理效果有很大影响。接着,重点介绍了PEF真空等离子机腔体的主要类型和结构。从目前的处理室类型来看,常用的处理室有平板、同轴和同场三种。
(3)在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压,真空等离子处理设备公司使气体被击穿,并通过辉光放电而发生离子化和产生等离子体。让在真空室产生的等离子体完全笼罩在被处理工件,开始清洗作业。一般清洗处理持续几十秒到几分钟。 (4)清洗完毕后切断高频电压,并将气体及汽化的污垢排出,同时向真空室内鼓入气体,并使气压升至一个大气压。。
活性等离子体对被清洗物表面进行物理轰击和化学反应,真空等离子处理设备公司使被清洗物表面物质变成颗粒和气态物质,抽真空排出,达到清洗目的。
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公司低温等离子处理设备的优势低温等离子的电离率低,电子温度远高于离子温度,离子温度甚至可以匹配室温。因此,冷等离子体是一种非热平衡等离子体,冷等离子体具有比普通化学反应更多样化、更活跃、更容易接触的许多活性粒子。它用于修改材料表面,因为它会在材料表面引起反射。与传统方法相比,等离子表面处理具有成本低、无浪费、无污染等显着优势。同时,可以获得常规化学方法无法达到的处理效果。
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