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因此，玻璃表面改性亲水性低温真空等离子体设备更适合加工一些加热时容易变形的材料。大气等离子体设备是等离子体形成的一种情况。大气等离子体利用压缩空气，在蒸气体达到0.2 mpa时形成等离子体。然而，真空等离子清洗机是不同的。真空等离子清洗机要求真空，通常真空室可以形成25Pa以下的等离子体。。常压等离子体表面处理对FEP纤维的表面改性:采用常压等离子体对聚全氟乙丙烯(FEP)纤维进行表面处理。

表面改性亲水性

氮化硅可替代氧化硅用于晶圆制造，表面改性亲水性由于它的硬度高，可以在晶圆表面形成非常薄的氮化硅薄膜(在硅片制造中，使用广泛的薄膜厚度单位是埃)，厚度约为几十埃，可以保护晶圆表面，防止划伤，而且它出色的绝缘强度和抗氧化能力也可以很好地达到阻隔效果。由于氮化硅的流动性不如氧化物，刻蚀比较困难，利用等离子体表面处理器进行刻蚀可克服刻蚀困难。等离子体蚀刻是通过化学或物理作用，或物理和化学的联合作用来实现的。

这就是为什么:逐渐地，玻璃表面改性亲水性真空等离子体设备真空室的材料要求越来越高，如加工芯片、航天连接器等，对工艺和加工环境的要求也越来越高，这也是真空等离子设备选择铝真空室的一个重要原因，那么铝真空室有哪些优势呢?如果你的眼睛，你真的可以发现真空等离子体的真空反应室一般都是常见的石英材料如玻璃、不锈钢、铝合金等，而且对于不同行业的物料搬运要求不同，可以根据实际需要选择，配置真空室，真空室又经常使用铝合金材料，这是为什么呢?随着工业对等离子体表面处理要求的逐步提高，对真空等离子设备的真空室材料如加工芯片、航空航天连接器等提出了更高的要求，对工艺和加工环境的要求也越来越高。