1、附着力和抗划伤（附着力和摩擦力有什么区别） 等离子清洗常用于光刻胶的去除工艺中,在等离子体反响体系中通入少数的氧气,在强电场作用下,使氧气产生等离子体,敏捷使光刻胶氧化成为可挥发性气体状况物质被抽走。这种清洗技能在去胶工艺中具有操作便利、效率高、外表干净、无划伤、有利于确保产品的质量等优点,而且它不必酸、碱及有机溶剂等,因此越来越受到人们重视...
