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氧气化学性质比较活泼，具有较强的氧化性，氧气等离子清洗原理主要是通过与污染物发生氧化反应来清洗物质表面，实现表面状态改性。
宇宙中99．9%的物质都处于等离子体状态，等离子体是宇宙中最常见丰富的可见物质形式，包括太阳、恒星、电离层、闪电、极光、星际、高温火焰等。但是在地球上却很少有天然等离子体存在，因为地球及其附近大气的低温度和高密度阻碍了等离子体的存在。但在地球上层的大气(电离层)中，存在着由稀薄大气因光致电离产生的等离子体。在离地球更远的地方，等离子体在接近真空的空间被地磁场所俘获。等离子体从太阳流向地球(太阳风)，并充满星际空间的许多区域，从而形成一种被用以观察更外层空间的介质。这就意味着要获得和研究等离子体及其性质，必须用实验装置的方法来产生它们。最早是在1927年，当水银蒸气在高压电场中放电时由科研人员发现等离子体。后面的发现是通过多种形式，例如电弧光、激光、石英灯管日光灯管、能源需求的热核聚变、等离子处理系统等。等离子体的参数范围很广，温度密度皆跨越了数个量级。是由部分被电离的原子及原子团(正离子)以及电子组成的离子化气体状物质，整体正负电荷总数相等宏观呈电中性。
氧气等离子清洗原理：
氧气等离子清洗机的工作原理是在仪器的真空工作系统中通入少量的氧气,在高压电场及高频信号发生器产生高频信号的作用下石英管内形成强的电磁场,在电磁场作用下氧气电离形成由活化氧原子、氧离子、氧分子和电子构成的混合物，这些混合物就是具有清洗能力的等离子体辉光柱。受力驱使高速运动的活化氧(活泼的原子态氧)将有机分子轰击成小分子片段，随后这些小分子片段迅速地被氧化成水,二氧化碳等可挥发性气体并被机械泵抽走,最终达到清洗效果。
等离子清洗技术的应用始于20世纪初。随着电子等行业的快速发展，等离子体清洗技术的应用范围逐渐扩大，在许多高科技领域占据着关键的技术地位。目前，等离子体清洗已广泛应用于半导体和光电子行业，并逐步应用于光学工业、机械工业、汽车工业、航空航天工业、聚合物工业、污染防治等诸多技术领域。近年来，等离子体清洗技术已应用于电子元器件制造、

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氧气等离子体去除光阻的方法

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